三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜

　　光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的要害部件，指的是在光罩上睁开的一层薄膜，然后用呆板在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在使光罩免受氛围中微尘或挥发性气体的污染并镌汰光掩模破坏，该规模今朝仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导，而韩国 S&S Tech 等其后居上者也是首要供给商之一。

　　韩媒 ETNews 报道称，三星电子已经自主开拓出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜，有助于实现供给链多元化和不变。据证实，这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产物已经可以大局限出产。

　　IT之家获悉，三星电子在客岁的 2021 Foundry Forum 上公布自研 EUV 薄膜，其时还果真公布他们开拓出了 82% 透光率薄膜技能，并公布到 2022 年将拥有 88% 透光率的量产体系。

　　值得一提的是，韩国公司 S&S Tech 在 2021 年出产乐成开拓出了透光率达 90% 的半导体 EUV 薄膜，一举成为除了 ASML 之外另一家乐成开拓出了透光率高出 90% 的 EUV 薄膜的公司。据称，三星对它的要求是将比率进步到 94%。

　　业界猜测，本年 EUV 薄膜的需求将比客岁增进近 2 倍，而韩国国产的 EUV 薄膜最早将会在 1~2 年内商用化。另外，台积电也正在加速开拓本身的产物以确保 EUV 薄膜可控。